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半導體和LED照明產(chǎn)業(yè)

最初，熱式質量流量計和控制器是在1970年代為半導體制造過程中的氣相沉積而開發(fā)的。由于市場需求以及在氣體、液體和蒸汽輸送方面引進新的更好產(chǎn)品的需要，Bronkhorst成為半導體、平板顯示器和LED行業(yè)的主要供應商。針對化學氣相沉積（CVD）、平板顯示器噴涂（FPD）和原子層沉積（ALD）工藝，Bronkhorst可為直接液體注入系統(tǒng)提供金屬密封流量儀表。

應用案例

  • 切割（激光）前在晶片上沉積保護層
  • 金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)
  • 原子層沉積(ALD)
  • 超臨界流體定量給料和控制（如超臨界二氧化碳清洗）
  • 平板顯示器(FPD)噴涂

應用案例

流量控制 | MOCVD

流量控制對MOCVD應用很重要。流量控制如何幫助Bronkhorst客戶（TV制造商）提高LED產(chǎn)品質量？

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MOCVD 過程中的流量控制
在FOUP卸載模塊應用質量流量控制器進行氮氣吹掃

在FOUP卸載模塊應用質量流量控制器進行氮氣吹掃

目前技術要求在生產(chǎn)過程中對氣體進行更好的流量控制，以提高產(chǎn)量并降低這些氣體的使用成本。

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超臨界氣體測量與控制

當流體例如二氧化碳(CO2)在氣液兩相臨界區(qū)域處，難以測量它們的流量。建議使用科里奧利質量流量計。

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超臨界氣體測量與控制
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